氮化硅

Cas：

12033-89-5

英文名：

Silicon Nitride

中文别名：

四氮化三硅; 纳米氮化硅; 氮化硅粉末; 纳米四氮化三硅;

英文别名：

Hexacyclo[3.1.1.0.0.0.0]trisilazane; EINECS 234-796-8; Silicon nitride; MFCD00011230; Trisilicon tetranitride

密度：

2.8±0.1 g/cm3

沸点：

熔点：

1900 °C

分子式：

N4Si3

分子量：

140.283

闪点：

精确质量：

139.943069

PSA：

12.96000

LogP：

外观性状：

略米色粉末

蒸汽压：

折射率：

2.501

储存条件：

常温密闭，阴凉通风干燥处。

水溶解性：

稳定性：

由于它具有金刚石型三维晶格结构，所以具有高温热稳定性、抗热震性、化学稳定性和良好的电绝缘性及质硬性。易溶于氢氟酸，不溶于冷、热水及稀酸，对于浓硫酸和浓氢氧化钠溶液作用也极缓慢。氮化硅有α、β两种晶型。α-Si3N4为颗粒结晶，β-Si3N4为针状结晶体，两者均属六方晶系，相对密度3.18，莫氏硬度9，热膨胀系数小、化学稳定性好，并具有优良的抗氧化性。在1900℃分解为氮和硅。氮化硅的强度很高且耐高温，即使１２００℃的高温，其强度也不会改变，受热后不会熔成融体，一直到１９００℃才会分解，耐化学腐蚀性能，能耐几乎所有的无机酸以及多种有机酸的腐蚀；氮化硅坚硬、热膨胀系数小，热震稳定性极好，绝缘性好，化学性质稳定，机械强度很高。难氧化，可做成熔融Al，Pb，Mg，Sn的坩埚。

分子结构：

计算化学：

1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无 2.氢键供体数量:0 3.氢键受体数量:4 4.可旋转化学键数量:0 5.互变异构体数量:无 6.拓扑分子极性表面积13 7.重原子数量:7 8.表面电荷:0 9.复杂度:154 10.同位素原子数量:0 11.确定原子立构中心数量:0 12.不确定原子立构中心数量:0 13.确定化学键立构中心数量:0 14.不确定化学键立构中心数量:0 15.共价键单元数量:1

1. 性状：灰色无定形粉末或晶体。 2. 密度（g/mL,25℃）：3.18 3. 熔点（ºC）：1900

蒸汽密度：

凝固点：

燃点：

分子量：

140.283

InChI：

InChI=1/4H3N.3H4Si/h4*1H3;3*1H4/q4*-3;;;

EINECS号：

234-796-8

产品用途：

主要用作功能陶瓷材料原料，非铁金属的耐熔材料，飞机引擎，燃气输机喷嘴、轴承等高温结构材料和耐热涂层