样品气体分析装置与样品气体分析装置用方法

技术情况

技术简介:
本发明提供在对一个或多个测量对象成分进行的定量分析中能同时降低干扰影响与测量误差的样品气体分析装置与样品气体分析装置用方法。样品气体分析装置(100)使用向样品照射光而得到的光谱对所述样品中的一个或多个测量对象成分进行定量分析,并根据从开始产生样品气体到经过规定时间为止的第一产生条件以及经过所述规定时间后的第二产生条件对在多变量分析中使用的库数据进行切换,当处于第一产生条件时,使用对测量对象外成分的干扰影响进行了修正的第一库数据对多个测量对象成分进行定量分析,当处于第二产生条件时,使用没有对测量对象外成分的干扰影响进行修正的第二库数据对多个测量对象成分进行定量分析。

专利情况

是否有专利:
专利技术:
发明专利
专利申请日期:
2012-12-18
专利申请号:
CN201210551626.2
公布号:
CN103175786B
申请人:
株式会社堀场制作所
发明人:
板谷隆宏;中谷茂
IPC(国际专利分类号):
G01J3/02;G01J3/45;G01N21/35

市场情况

是否有样品或样机:
市场竞争状况:

其他信息

是否可形成独立产品/服务于产品特定场景:
是否愿意参加创新创业大赛/人才项目活动:
是否有商业计划书:
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