反应器的清洗方法

技术简介：

本发明的反应器的清洗方法，其特征在于，在填充有催化剂且停止了蜡馏分的供给的蜡馏分加氢裂化装置中流通溶剂，所述溶剂含有选自由烃和植物油组成的组中的至少1种油、硫分小于5ppm且在15℃下为液态。

是否有专利：

是

专利技术：

发明专利

专利申请日期：

2011-08-12

专利申请号：

CN201180050593.7

公布号：

CN103210066B

申请人：

日本石油天然气·金属矿物资源机构;国际石油开发帝石株式会社;吉坤日矿日石能源株式会社;石油资源开发株式会社;克斯莫石油株式会社;新日铁住金工程技术株式会社

发明人：

高桥信也;田坂和彦;田中祐一;岩间真理绘

IPC（国际专利分类号）：

B08B9/08;C10G75/00;C10G2/00;C10G47/00;B08B3/08

是否有样品或样机：

否

市场竞争状况：

否

是否可形成独立产品/服务于产品特定场景：

否

是否愿意参加创新创业大赛/人才项目活动：

否

是否有商业计划书：

否